- 高精度對位與自動化操作:自動曝光機配備高速圖像處理技術和自動對位功能，能夠精確地將掩膜圖案對準基板，適用於多層電路圖案的製作。
- 多樣化曝光模式:設備支援近接式、軟接觸和硬接觸等多種曝光模式，滿足不同製程需求，並可處理大尺寸基板，提升生產彈性。
- 適用於多種材料與結構:適用於各種材料，包括薄膜、玻璃、陶瓷等，並能處理翹曲或易碎的基板，適合製作觸控面板、光學膜、OLED等產品。
- 客製化設計與模組化組合:提供客製化機台設計，支援切片輸送、卷對卷（Roll to Roll）等多種配置，滿足不同客戶的生產需求。
- 高效率與穩定性:設備具備高產能和穩定的曝光品質，適合大規模量產，並能有效提升製程效率和產品良率。
